真空鍍膜設(shè)備中用于殘余氣體分析的質(zhì)譜儀可以用H、He、Ar等作為示蹤氣體進(jìn)行泄漏檢測(cè)，但這些泄漏檢測(cè)儀的泄漏檢測(cè)靈敏度不同。自20世紀(jì)40年代以來(lái)，質(zhì)譜儀在泄漏檢測(cè)中的應(yīng)用進(jìn)一步促進(jìn)了泄漏檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展。對(duì)氦檢設(shè)備的評(píng)價(jià)需要充分了解其主要性能指標(biāo)。靈敏度是氦檢設(shè)備的主要參數(shù)。由于各國(guó)對(duì)氦檢設(shè)備靈敏度的定義不一致，在中國(guó)，氦檢設(shè)備的靈敏度基本上用較小可檢漏率來(lái)表示。

　　氦檢設(shè)備的較小可檢漏率(靈敏度)，指的是在檢漏裝置在處于一個(gè)較佳的工作條件下(示漏氣體采用的是一個(gè)大氣壓的純氦)，做“動(dòng)態(tài)檢漏”時(shí)能檢出的較小漏孔的漏率。

　　1、工作條件。

　　指被檢鍍膜設(shè)備部件的材料出氣很少，且沒(méi)有較大漏孔;檢漏裝置本身的參數(shù)調(diào)整到較佳工作狀態(tài)等。

　　2、動(dòng)態(tài)檢漏。

　　指不用累積法進(jìn)行檢漏，檢漏裝置本身的真空抽氣系統(tǒng)仍正常進(jìn)行抽真空，裝置的反應(yīng)時(shí)長(zhǎng)小于3s，3s當(dāng)中的抽氣系統(tǒng)的時(shí)間常數(shù)是小于一秒的;

　　3、氦檢設(shè)備較小可檢。

　　指其信號(hào)是本底噪聲的兩倍;

　　4、漏孔的漏率。

　　指干燥空氣(100kPa的壓力)經(jīng)漏孔通向真空端(遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于100kPa的壓力)的漏率。

　　氦檢設(shè)備對(duì)氦分壓變化有反應(yīng)的氦檢設(shè)備，為表征這種反應(yīng)特性，較好給出檢漏裝置的較小可檢濃度，即濃度靈敏度。所謂檢漏裝置的“濃度靈敏度”，指處在工作壓力下(工作壓力一般為10Pa~10Pa)的質(zhì)譜室，使用該裝置可檢示的大氣中的較小氦濃度的變化。而鍍膜設(shè)備的氦檢設(shè)備中的“較小可檢濃度”則為信號(hào)與裝置噪聲比為一或二時(shí)，當(dāng)中氦的濃度。